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掩模基板抛光机

掩模基板抛光机

主要应用于半导体集成电路的高平坦度的电子设备用基板，该设备提供一种新的掩模基板抛光和制造方法。

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主要应用于半导体集成电路的高平坦度的电子设备用基板，该设备提供一种新的掩模基板抛光和制造方法。

优势


1.双区可控加压抛光头；
2.可实现抛光模和工件的原位检测；
3.具备缺陷修复功能单元；
4.独立供液管路；
5.国产化率100%；

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