化学机械抛光单模组

化学机械抛光单模组

基于晶圆的抛光设备,利用柔性抛光头承载晶圆在抛光垫上旋转抛光。设备具有高度兼容性,可以通过修改RECIPE变更加压压力。可通过最多3种化学液的配合下实现化学机械抛光。

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基于晶圆的抛光设备,利用柔性抛光头承载晶圆在抛光垫上旋转抛光。设备具有高度兼容性,可以通过修改RECIPE变更加压压力。可通过最多3种化学液的配合下实现化学机械抛光。

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优势

1、具有气囊背压功能,可兼容多区加压抛光头;

2、灵活RECIPE设定,高质量的SFQR和ESFQR;
3、可兼容6或8寸抛光头,便捷更换式抛光盘;
4、 可使用摩擦力重点检测或光学终点检测功能;

5、3路独立供液管路;

6、占地面积小;

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